一、微通道板离子壁垒膜及其电子透过特性的研究(论文文献综述)
郭雅宁[1](2018)在《微通道板输入面光子反射特性研究》文中指出微光夜视技术对提高现代战争夜战能力有着十分重要的意义,微光像增强器是微光夜视技术的核心器件,由光电阴极、电子倍增器和荧光屏组成。二代、三代和四代微光像增强器是用微通道板来进行电子倍增的,这大大提高了像增强器的整体性能。但是微光像增强器在工作的过程中,由于从光电阴极透射的光子在微通道板输入端面有一定的反射,会产生光子散射噪声,降低像增强器的信噪比。通过查阅文献,国内外相关行业对这个方面的研究较少,本文将对微通道板输入面的光子反射特性进行研究,旨在为之后能够在工艺上降低微通道板输入面的反射率进而减小光子散射噪声提供一定的理论依据。本文采用理论和实验相结合的方法,对微通道板输入面的光子反射特性与入射光谱波长、微通道板丝径大小、输入端面是否蒸镀防离子反馈膜之间的关系进行了研究。理论上,利用麦克斯韦方程组推出金属薄膜光学常数与波长、电导率等因素之间的关系,解释了微通道板输入面反射特性与波长之间的关系,得出蒸镀防离子反馈膜之后输入面反射率会降低。微通道板丝径大小决定开口面积比,光子散射噪声是附加噪声的一部分,与开口面积比成正比,则微通道板输入面反射率与开口面积比的大小成正比关系。实验上,选择丝径分别为6μm、8μm、10μm三种微通道板样品,在200nm-800nm波段用UV-3600分光光度计分别测试其反射率。结果表明:6μm微通道板样品反射率在200nm-500nm波段线性增大,大约从10%上升到17%之后趋于稳定。丝径为8μm的样品其测试结果与6μm样品所得的结果进行比较,开口面积比大的8μm样品反射率小,但与理论分析反射率与开口面积比成正比有误差,分析了误差产生的原因。10μm微通道板样品蒸镀防离子反馈膜前后曲线进行比较,镀膜后反射率降低了约2.5%。在实验测试的基础上,对所得的数据进行曲线拟合的分析,得出了每种样品其反射率与波长之间的函数关系。据此在之后的研究中,可以通过光电阴极透射光的情况,得出这几种参数条件下微通道板在其他波段上的反射情况,进一步推断其光子散射噪声的情况。
石攀[2](2018)在《微通道板芯皮玻璃界面扩散及电子增益理论模拟》文中研究表明微通道板(Microchannel plates,MCP)具有高增益、低噪声、高分辨、宽动态等优良特性,在微弱光电信号成像、空间单光子探测、高能粒子探测、核诊断等诸多领域已得到广泛的应用。在微通道板众多特性中,电子增益是微通道板的基本性能,是实现电子倍增的前提。而微孔内壁表面的微观形貌及成分直接影响二次电子发射产额,其值又决定了微通道板电子增益。本文研究了微通道板各热加工条件下微通道芯、皮玻璃界面扩散性能,以及在压片法下芯、皮玻璃不同工艺的界面状态,构建了微孔内壁界面扩散过程模型,探讨了扩散与电子增益理论模型的关系,实现了电子增益理论模型的优化。首先,研究了微通道板制备过程中单、复丝拉制及坯板熔压等热过程下芯、皮玻璃界面间元素离子的扩散距离,并利用压片法模拟实际生产的微通道板芯、皮玻璃界面扩散,制得不同温度与压力下的界面扩散样品,分析样品扩散距离的变化及其对界面微观形貌的影响趋势。结果表明:微通道板芯、皮玻璃界面的离子扩散能力不同,并受到温度和压力的影响,随温度的提高和压力的增加而增强。微孔内壁表面的粗糙程度随界面扩散增强而增大,酸蚀剥离芯玻璃后的皮玻璃表面出现岛状结构,这种岛状颗粒在纤维拉制时就已经在界面处形成,表明芯、皮玻璃界面存在相互反应扩散。其次,研究了制备过程中单丝拉制、复丝拉制及热熔压三个热过程的温度参数对微通道板芯、皮玻璃界面扩散的影响,对微通道板坯板进行相同的酸蚀、还原、镀膜等理化工艺处理并测得电子增益。结果表明:热加工温度对芯、皮玻璃界面扩散程度有明显影响,进而影响电子增益的大小,而且单丝拉制、复丝拉制及热熔压的温度对电子增益的影响程度存在明显差异。最后,基于微通道板电子增益理论模型,模拟了通道长度与通道直径之比(长径比)、板两端工作电压以及入射角度等因素变化时对电子增益、渡越时间及碰撞次数的影响。分析了各理论模型的优缺点,改进了常曾虎修正模型,基于实验得到的增益结果,优化了改进模型的相关参数。采用Monte Carlo数学随机方法和Furman二次电子发射概率模型模拟微通道板电子传输、碰撞和倍增的过程,取得了与本实验增益结果吻合的模拟结果,同时根据不同拉制温度下的电子增益,对理论模型中与表面状况相关的常数进行了拟合计算,优化了修正理论模型中相关的常数。
孙擘[3](2014)在《微通道板离子壁垒膜性能优化的模拟研究》文中提出目前,微通道板离子壁垒膜是第三代像管的重要组成部分,它可以有效地防止正离子反馈和避免光电阴极损伤,从而提高像管的分辨力和使用寿命。本文简要的介绍了夜视器件,微通道板和离子壁垒膜的发展和应用,以及对带电粒子通过离子壁垒膜的物理机制进行了分析。研究重点运用了蒙特卡罗方法,介绍模拟环境,建立带电粒子透过模型。对电子在不同的铝氧比薄膜,不同条件氧化锌薄膜,不同条件氮化硼的阻透特性进行模拟,与氧化铝离子壁垒膜进行对比及理论拟合,并给出氧化锌的死电压;对离子在不同的铝氧比和不同氮化硼的阻透阻透特性进行模拟;对噪声因子进行模拟。最后,运用分子动力学方法,介绍了模拟计算机制,给出分子运动过程,模拟了温度对离子壁垒膜带电粒子阻透特性的影响。
张洋[4](2013)在《微通道板玻璃无铅化及还原工艺对性能的影响》文中提出微通道板是一种先进的二维电子倍增器件,具有高增益、低噪声、高分辨率、自饱和等特性,在微光夜视、核探测与诊断、空间技术和医学成像等领域有着广泛应用。微通道板材料多用铅硅酸盐玻璃,研究无铅玻璃成分及还原工艺对微通道板性能的影响,对于制备环保型高增益微通道板具有重要意义。本文对微通道板进行了基本介绍,总结了材料的二次电子发射理论以及微通道板电子倍增特性研究现状,分析了当前研究中存在的问题。课题分别研究了铅铋含量对于微通道板皮料玻璃性能的影响、初步探索了微通道板玻璃无铅化的可行性以及不同还原工艺对微通道板性能的影响。研究发现,随着铅含量的减少和铋含量的增加,微通道板皮料玻璃的密度、分子体积、折射率和平均线膨胀系数均线性增大,玻璃化转变温度和软化温度则降低,化学稳定性变差,体电阻率、面电阻率与二次电子发射系数逐渐降低。铋含量越多,还原后表面金属含量越高,光透过率与面电阻率越低。使用Pb/Bi为3/1的玻璃制备的微通道板具有很高的电流增益,800V增益大于6000,900V增益大于15000,还原后的电阻约175MΩ,可满足微通道板的使用要求。当用锑元素全部替代微通道板玻璃中的铅元素后,玻璃的分子体积、折射率和平均线膨胀系数增大,密度、玻璃化转变温度和软化温度降低显着,化学稳定性变差,还原后光透过率降低,玻璃的体电阻率降低一个数量级,面电阻率降低约两个数量级,而且还原后面电阻率降低幅度更大,达到三个数量级,这对于改善微通道板还原后电阻,扩大动态范围极为有利。结合铅铋含量对微通道板皮料玻璃的影响实验,可以认为微通道板皮料玻璃的无铅化具有一定的可行性,为今后更加深入的研究探明了方向。随着还原温度的升高或者还原时间的延长,微通道板玻璃的表面金属含量增多、晶粒尺寸增大、光透过率降低。玻璃表面硅、氧、碱金属及碱土金属元素成键状况不变,铅和铋逐渐被还原为金属单质。碱金属离子在表面偏析严重,碱土金属离子偏析次之,硅含量略有增加,桥氧相对含量增加,非桥氧相对含量降低,铅铋金属单质含量增加。随温度升高和时间的延长,玻璃面电阻率及微通道板体电阻降低,时间过长或温度过高反而增加;玻璃二次电子发射系数和微通道板电流增益逐渐增加,温度过高或时间过长反而会降低。存在最佳还原工艺制度:温度450550℃,时间1.53h。
于珊珊[5](2013)在《防离子反馈膜对微光图像噪声特性的影响》文中研究说明本论文的主要研究内容有以下几个部分:全面的总结现在微光夜视的发展现状,微通道板工作原理以及防离子反馈膜的基本理论。用Monte Carlo方法模拟电子散射,分析防离子反馈膜对入射电子的透射性能的影响,建立适用于低能带电粒子与防离子反馈膜相互作用的物理模型;通过测试和模拟仿真给出防离子反馈膜的组成、结构、厚度及工作条件对三代微光像增强图像噪声影响规律,进行防离子反馈膜对图像噪声特性影响的模拟仿真。本文主要研究目的是为三代微光像增强器防离子反馈膜性能优化提供理论和技术支撑。由于在模拟计算过程中考虑了防离子反馈膜的组成、厚度、原子密度等参数,所以可以得到影响总噪声因子的相关因素。
刘倩[6](2013)在《三代微通道板电子传输特性研究》文中研究说明随着近几十年科学技术的发展,微光夜视技术已被主要应用于军事及其他领域中。与美国已经发展到四代微光夜视技术相比,我国目前正发展到三代夜视技术。因此,更多的三代微光夜视技术方面的研究为发展四代夜视技术提供了良好的条件。微通道板作为三代微光像增强器的主要部件,它的特性成为决定三代微光夜视技术发展的因素之一。三代微通道板由防离子反馈膜和微通道板组成。本论文主要对三代微通道板的电子传输特性进行研究分析,通过防离子反馈膜和微通道板两方面的电子传输特性来进行研究。首先研究了防离子反馈膜的电子透过特性,通过建立模型、模拟分析了Al2O3和SiO2两种防离子反馈膜的电子透过特性,比对那种薄膜的电子透过特性较好。然后对微通道板的电子倍增特性进行研究分析,通过研究微通道板电子的倍增过程,分析了MCP二次电子发射系数及MCP增益的特性。
张太民,石峰,朱宇峰,李敏,聂晶,张妮,刘晓健,贺英萍[7](2012)在《电子束蒸镀MCP超薄防离子反馈膜及膜层特性分析》文中认为为了进行MCP超薄防离子反馈膜的性能评价研究,并使这种膜层具有良好离子阻挡能力,利用电子束蒸发方法,在微通道板(MCP)输入面上制备一种超薄Al2O3防离子反馈膜,其膜层厚度为2nm时仍连续致密。通过对Al2O3防离子反馈膜的电子透过特性测试,给出2nm及4nm厚防离子反馈膜对应的死区电压分别约为150V及200V;利用Monte-Carlo法模拟分析了Al2O3防离子反馈膜的离子阻挡特性,2nm及4nm厚Al2O3防离子反馈膜对碳离子等的阻挡率分别高于40%及86%,另外对有无膜的MCP电特性进行测试,可以看出镀2nm及4nm厚的膜后,MCP电子增益分别降低了51%及81%。
房立峰[8](2011)在《微通道板离子壁垒膜的进一步研究》文中研究指明目前,微通道板(MCP)离子壁垒膜是阻止微光像增强器中正离子反馈的有效方法之一。它可以有效地保护光电阴极,延长像增强器的使用寿命。本文简要地介绍了微通道板的研究进展及其应用、离子壁垒膜的作用及其制备工艺。着重研究了离子壁垒膜制备过程中所用有机膜的配方,并对所配制的有机膜进行了溅射铝膜和贴膜检测,给出了检测结果;对带膜MCP进行了高温除气实验,得到了离子壁垒膜的表面形貌和MCP电性能的变化情况,并对其进行了初步分析;最后,对离子壁垒膜的电子和离子透过特性作了理论分析,并用蒙特卡罗(Monte Carol)的固体电子轨迹模拟程序和离子输运程序对离子壁垒膜进行了模拟,给出了Al203和Si02离子壁垒膜的电子和离子透过特性随外加电压和膜厚变化的模拟曲线。
秦志楠[9](2011)在《微通道板防离子反馈膜电子散射对像管的性能影响》文中研究指明近些年来,我国一直在不断的研究第三代微光像增强器,对其主要影响因素进行研究,例如:分辨率、信噪比和噪声因素等一系列问题。本论文的研究课题正是对第三代微光像增强器的分辨率进行了研究和探讨。本论文研究了电子散射对像管分辨率的影响,讨论了电子透过特性并且利用蒙特卡洛模拟了光阴极电压的改变对带膜微通道板的背散射电子和膜层中电子的关系。对微通道板电子散射进行深入分析和研究,研究了二次电子发射理论,并对微通道板背散射光晕提出了新的见解。采用了Runge-Kutta算法计算了电子散射的运动轨迹,通过计算的数据结果与模拟出的图形来分析怎样提高分辨率的问题。并且提出了电子散射是微通道板形成背射光晕的主要因素,利用二次电子发射的理论分析对微通道板的背射光晕和背射距离进行了计算,结果发现了背射光圈和电子能量有很大的关系。
李野[10](2011)在《便携式低强度X射线实时成像系统关键技术研究》文中研究指明X射线无损检测在工业上的应用由来已久,早期的拍片法检测耗时长、成本高,根本不具有实时性,在应用中受到很多的限制。最近十几年来,随着计算机图像处理技术的发展,使X射线实时成像系统得到了迅速的发展,X射线实时成像系统集X射线成像技术、计算机图像处理技术技术为一体,检测速度快,与传统的拍片方法相比,极大地提高了X射线检测的效率,降低了检测成本,具有检测数据易于保存和查询等优点,其实时动态效果更是传统拍片法所不及的。传统的X射线实时成像系统采用静电聚焦式X射线图像增强器,体积较大,只能作为固定式系统使用。近贴式X射线图像增强器的出现,推动了便携式低强度X射线影像系统的发展,相继出现了小型台式X射线影像仪、手握式X射线影像仪等产品。这种便携式低强度X射线影像仪功耗低、防护容易,在明亮环境中可以直接观察,为医疗领域的临床检查、运动场及野战部队的实时检查提供了重要的手段;同时在小型工业产品的无损检测、安保部门的安全检查等领域也得到了广泛的应用。但是这种X射线影像系统成像质量低,对提高其成像质量的系统性研究还比较少,近年来针对它的图像采集处理技术的研究还局限于大型X射线实时成像系统所采用的方法,不具备便携性的实时图像处理功能。便携式X射线实时成像系统包括X射线源、单近贴式图像增强器、CCD、图像采集处理设备等构成,属于串联成像系统,在串联系统中任何一个环节的性能低下都会成为制约系统性能的瓶颈。为提高便携式低强度X射线实时成像系统的成像质量,拓展其应用空间,本文对影响便携式X射线实时成像系统成像质量的关键因素进行了系统的研究,提出了相应的解决方案。有针对性地开展了以下研究工作:1.对X射线成像模糊原因及其处理方法进行研究,利用Tracepro软件实现了X射线几何成像性能的评价,为系统设计中X射线管的选型提供了一种低成本的高效解决方案;对微通道板(MCP)作为吸收式准直器进行了理论和实验研究,得到了理想的结果,MCP准直器体积小、重量轻,非常适合于应用在便携式X射线影像系统中。2.对单近贴式X射线图像增强器的阴极性能进行了研究,得到了理想的膜层结构,并利用蒙特卡罗方法对逸出阴极表面的电子散射进行了模拟研究,表明阴极中电子散射是影响近贴式X射线图像增强器分辨率的重要因素,提出采用辅助加速电场减小逸出电子弥散半径的方案。3.对单近贴式X射线图像增强器及CCD的噪声影响因素进行了研究,对于采用CCD进行图像采集的实时成像系统,采用降低微通道板工作电压的方法降低了X射线图像增强器的成像噪声,并采用制冷CCD降低图像采集过程中的噪声,将CCD的背景噪声降低了6倍,并对X射线图像增强器与CCD的分辨率匹配进行了研究,给出了最佳像素匹配数据。4.针对便携式X射线实时成像系统的空间分辨率及对比灵敏度要求,研究了图像降噪与图像增强两步图像处理方法,分别从频域、时频域及空间滤波角度进行了图像降噪处理研究,对比得出时频域滤波针对X射线影像有较好的效果;通过对各种图像增强算法的研究,采用灰度值变异数压缩增强区域的对比度拉伸变换可有效地增强低对比度的X射线图像。5.采用基于NIOSⅡ的FPGA平台,设计了DSP IP软核及图像处理软核,实现图像处理的并行结构,提高了处理速度,实现了便携式的实时图像处理功能。经过对系统各部分的优化后,在采用单近贴聚焦的X射线实时成像系统中实现了6.3lp/mm的分辨率,达到了进口线阵和面阵的水平。最后对本文的工作进行了总结,并提出对今后工作的展望。
二、微通道板离子壁垒膜及其电子透过特性的研究(论文开题报告)
(1)论文研究背景及目的
此处内容要求:
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景,再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题,并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例:
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
(2)本文研究方法
调查法:该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法:用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法:通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法:通过调查文献来获得资料,从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法:依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法:对研究对象进行“质”的方面的研究,这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法:通过具体的数字,使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法:运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法:这是社会科学用来分析社会现象的一种方法,从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法:通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、微通道板离子壁垒膜及其电子透过特性的研究(论文提纲范文)
(1)微通道板输入面光子反射特性研究(论文提纲范文)
摘要 |
ABSTRACT |
第一章 绪论 |
1.1 本课题研究的背景和意义 |
1.2 所研究课题的发展以及现状 |
1.2.1 微光夜视技术发展概述 |
1.2.2 微光像增强器发展历程 |
1.2.3 微通道板国内外研究现状 |
1.3 本文主要内容章节安排 |
第二章 微通道板输入面光子反射特性理论研究 |
2.1 微通道板的介绍 |
2.1.1 微通道板的结构和工作原理 |
2.1.2 微通道板工艺的制作流程 |
2.1.3 微通道板的特征性能 |
2.2 透射式光阴极的结构及透射光子的能力 |
2.3 微通道板输入面光子散射噪声产生的机理 |
2.4 微通道板输入面光子反射特性的理论研究 |
2.4.1 金属薄膜表面反射光谱的基本理论 |
2.4.2 微通道板输入面反射率与波长、丝径和是否蒸镀防离子反馈膜的关系 |
2.5 本章小结 |
第三章 微通道板输入面光子反射特性实验研究 |
3.1 实验测试所用设备 |
3.2 微通道板输入端面电极介绍 |
3.3 不同波长微通道板输入面光子反射率测试结果 |
3.4 不同丝径微通道板输入面光子反射率测试结果 |
3.5 蒸镀防离子反馈膜前后微通道板输入面光子反射率测试结果 |
3.5.1 微通道板蒸镀氧化铝防离子反馈膜工艺介绍 |
3.5.2 蒸镀防离子反馈膜前后反射率测试结果 |
3.6 本章小结 |
第四章 微通道板输入面光子反射实验数据拟合分析 |
4.1 试验数据拟合方法的确定 |
4.2 实现最小二乘法多项式拟合曲线的方法 |
4.3 多项式拟合曲线误差分析 |
4.4 利用多项式数据拟合对实验数据进行分析 |
4.4.1 丝径大小不同微通道板输入面光子反射率结果分析 |
4.4.2 蒸镀防离子反馈膜前后微通道板输入面光子反射率结果分析 |
4.5 本章小结 |
第五章 总结与展望 |
5.1 工作总结 |
5.2 展望 |
致谢 |
参考文献 |
硕士期间学术成果情况 |
(2)微通道板芯皮玻璃界面扩散及电子增益理论模拟(论文提纲范文)
摘要 |
Abstract |
第1章 绪论 |
1.1 引言 |
1.2 国内外发展现状 |
1.2.1 国内发展现状 |
1.2.2 国外发展现状 |
1.3 微通道板的类型、工艺及结构和工作原理 |
1.3.1 微通道板的类型 |
1.3.2 微通道板制备工艺 |
1.3.3 微通道板结构和工作原理 |
1.4 通道板内壁界面的研究现状 |
1.5 微通道板增益理论模型的研究现状 |
1.5.1 电子增益理论模型的重要影响因素 |
1.5.2 第一类电子增益理论模型 |
1.5.3 第二类电子增益理论模型 |
1.6 本文的研究目的和内容及论文创新点 |
1.6.1 研究目的和内容 |
1.6.2 创新点 |
第2章 实验样品制备 |
2.1 主要原材料、仪器设备 |
2.1.1 主要原材料 |
2.1.2 仪器设备 |
2.2 微通道板实验样品制备 |
2.3 压片法实验样品制备 |
2.4 测试方法 |
2.4.1 膨胀系数 |
2.4.2 光学性能 |
2.4.3 界面性能 |
2.4.4 电子增益 |
第3章 热过程对界面扩散的影响 |
3.1 引言 |
3.2 微通道板玻璃的基本性能 |
3.2.1 微通道板芯、皮玻璃的热膨胀系数 |
3.2.2 微通道板芯、皮玻璃的光学性能 |
3.2.3 微通道板芯玻璃的酸蚀速率 |
3.3 微通道板单丝、复丝及坯板芯、皮玻璃界面的扩散 |
3.3.1 微通道板单丝芯、皮界面成分扩散 |
3.3.2 微通道板复丝芯、皮界面成分扩散 |
3.3.3 微通道板坯板芯、皮界面成分扩散 |
3.4 压片法下不同热压温度和压力对微孔微观形貌的影响 |
3.4.1 不同热压条件对芯、皮玻璃界面成分扩散的影响 |
3.4.2 不同热压条件对芯、皮玻璃界面微观形貌的影响 |
3.5 芯、皮玻璃界面的扩散过程 |
3.6 本章小结 |
第4章 热过程温度对微通道板增益的影响 |
4.1 引言 |
4.2 热过程温度对芯、皮玻璃界面成分的影响 |
4.2.1 改变单丝拉制温度对芯、皮玻璃界面成分的影响 |
4.2.2 改变复丝拉制温度对芯、皮玻璃界面成分的影响 |
4.2.3 改变热压温度对芯、皮玻璃界面成分的影响 |
4.3 热过程温度对微通道板电子增益的影响 |
4.3.1 改变单丝拉制温度对微通道板电子增益的影响 |
4.3.2 改变复丝拉制温度对微通道板电子增益的影响 |
4.3.3 改变热压温度对微通道板电子增益的影响 |
4.4 热过程温度对电子增益理论模型参数的关系 |
4.4.1 单丝组温度变化对增益理论模型参数的影响 |
4.4.2 复丝组温度变化对增益理论模型参数的影响 |
4.4.3 热压组温度变化对增益理论模型参数的影响 |
4.5 本章小结 |
第5章 微通道板增益理论模型的优化及模拟 |
5.1 引言 |
5.2 第一类电子增益理论模型的优化及模拟 |
5.3 第二类电子增益理论模型的优化及模拟 |
5.4 本章小结 |
结论与展望 |
参考文献 |
攻读硕士学位期间的科研成果及所获奖励 |
致谢 |
(3)微通道板离子壁垒膜性能优化的模拟研究(论文提纲范文)
摘要 |
ABSTRACT |
第一章 绪论 |
1.1 微光夜视器件发展 |
1.2 微通道板的结构与特点 |
1.3 离子壁垒膜概述 |
1.4 论文的主要研究内容 |
第二章 离子壁垒膜的基本机制 |
2.1 粒子阻透特性的基本机制 |
2.2 入射电子透过离子壁垒膜的机制分析 |
2.3 入射离子受离子壁垒膜阻挡作用的机制分析 |
第三章 蒙特卡罗方法的模拟机制 |
3.1 蒙特卡罗方法 |
3.2 固体粒子轨迹的模型 |
3.3 离子输运程序机制 |
3.4 噪声因子计算 |
第四章 蒙特卡罗模拟实验 |
4.1 模拟实验环境 |
4.2 蒙特卡罗方法模拟电子透过特性 |
4.3 蒙特卡罗方法模拟离子阻挡特性 |
4.4 蒙特卡罗方法模拟噪声因子计算 |
第五章 分子动力学模拟 |
5.1 分子动力学模拟机制 |
5.2 分子动力学计算机制 |
5.3 分子动力学模拟温度对粒子阻透特性的研究 |
结论 |
致谢 |
参考文献 |
发表文章 |
(4)微通道板玻璃无铅化及还原工艺对性能的影响(论文提纲范文)
摘要 |
Abstract |
第1章 绪论 |
1.1 引言 |
1.2 微通道板概述 |
1.2.1 微通道板的结构与工作原理 |
1.2.2 微通道板的类型与发展 |
1.2.3 微通道板的制造工艺 |
1.2.4 微通道板的特性分析 |
1.2.5 微通道板的主要应用领域 |
1.3 微通道板电子倍增性的研究现状 |
1.3.1 材料的二次电子发射理论 |
1.3.2 微通道板电流增益表达式 |
1.3.3 影响微通道板增益的参数 |
1.3.4 通道内壁成分及形貌对增益的影响 |
1.4 当前研究中存在的问题 |
1.5 课题主要研究内容及创新点 |
1.5.1 课题主要研究内容 |
1.5.2 课题创新点 |
第2章 实验部分 |
2.1 引言 |
2.2 主要原材料 |
2.3 主要仪器及设备 |
2.4 实验样品的制备 |
2.4.1 不同铅铋比玻璃样品的制备 |
2.4.2 微通道板皮料玻璃无铅化实验设计 |
2.4.3 不同还原工艺实验样品的制备 |
2.5 测试方法及原理 |
2.5.1 物理性质测试 |
2.5.2 化学稳定性测试 |
2.5.3 光透过率测试 |
2.5.4 电阻性能测试 |
2.5.5 微通道板电性能测试 |
2.5.6 X 射线光电子能谱分析 |
2.5.7 X 射线衍射分析 |
第3章 铅铋含量对微通道板皮料玻璃性能的影响 |
3.1 引言 |
3.2 铅铋含量对玻璃物理性能的影响 |
3.2.1 铅铋含量对密度及分子体积的影响 |
3.2.2 铅铋含量对折射率的影响 |
3.2.3 铅铋含量对线膨胀系数、转变温度和软化温度的影响 |
3.3 铅铋含量对玻璃化学稳定性的影响 |
3.3.1 铅铋含量对耐水性的影响 |
3.3.2 铅铋含量对耐酸性的影响 |
3.3.3 铅铋含量对耐碱性的影响 |
3.4 铅铋含量对玻璃光透过率的影响 |
3.4.1 未还原玻璃样品的光透过率 |
3.4.2 还原后玻璃样品的光透过率 |
3.5 铅铋含量对玻璃电阻的影响 |
3.5.1 铅铋含量对体电阻率的影响 |
3.5.2 铅铋含量对面电阻率的影响 |
3.6 铅铋含量对玻璃二次电子发射系数的影响 |
3.7 微通道板的增益及电阻 |
3.8 本章小结 |
第4章 微通道板皮料玻璃无铅化实验探索 |
4.1 引言 |
4.2 无铅微通道板皮料玻璃的物理性能 |
4.2.1 玻璃的密度和分子体积对比 |
4.2.2 玻璃的折射率对比 |
4.2.3 玻璃的膨胀系数、转变温度和软化温度对比 |
4.3 无铅微通道板皮料玻璃的化学稳定性 |
4.4 无铅微通道板皮料玻璃的光透过率 |
4.4.1 未还原玻璃样品的光透过率 |
4.4.2 玻璃样品还原后的光透过率 |
4.5 无铅微通道板皮料玻璃的电阻性能 |
4.5.1 还原前后玻璃体电阻率的变化 |
4.5.2 还原前后玻璃面电阻率的变化 |
4.6 本章小结 |
第5章 还原工艺对微通道板电子倍增性的影响 |
5.1 引言 |
5.2 还原温度对微通道板性能的影响 |
5.2.1 还原温度对玻璃光透过率的影响 |
5.2.2 还原温度对玻璃表面金属析晶的影响 |
5.2.3 还原温度对玻璃表面元素价态及含量的影响 |
5.2.4 还原温度对材料二次电子发射系数的影响 |
5.2.5 还原温度对微通道板电流增益的影响 |
5.2.6 还原温度对微通道板体电阻的影响 |
5.3 还原时间对微通道板性能的影响 |
5.3.1 还原时间对玻璃光透过率的影响 |
5.3.2 还原时间对玻璃表面金属析晶的影响 |
5.3.3 还原时间对玻璃表面元素价态及含量的影响 |
5.3.4 还原时间对材料二次电子发射系数的影响 |
5.3.5 还原时间对微通道板电流增益的影响 |
5.3.6 还原时间对微通道板体电阻的影响 |
5.4 本章小结 |
结论与展望 |
1 结论 |
2 展望 |
参考文献 |
攻读学位期间发表的学术论文及获得的专利 |
致谢 |
(5)防离子反馈膜对微光图像噪声特性的影响(论文提纲范文)
摘要 |
Abstract |
目录 |
第一章 绪论 |
1.1 微光像增强器的发展 |
1.1.1 国外研究现状 |
1.1.2 国内研究现状 |
1.2 三代微光像增强器的发展 |
1.3 本文研究的主要内容及意义 |
第二章 基本原理 |
2.1 微通道板的基本工作原理 |
2.2 防离子反馈膜的工作原理 |
2.3 微通道板噪声的来源 |
第三章 微通道板防离子反馈膜电子透射特性的研究 |
3.1 电子散射的散射截面 |
3.2 电子的能量损失 |
3.2.1 弹性散射的能量损失 |
3.2.2 非弹性散射的能量损失 |
3.3 电子散射Monte Carlo模拟的研究 |
3.3.1 电子散射的Monte Carlo方法介绍 |
3.3.2 防离子反馈膜电子散射的参数计算 |
3.3.3 计算机模拟电子散射的坐标转换 |
3.3.4 Monte Carlo模拟电子散射的程序框图 |
3.4 防离子反馈膜电子透射性能的结果分析 |
3.4.1 电子透过率随能量变化的结果分析 |
3.4.2 电子透射率随膜层厚度变化的结果分析 |
第四章 防离子反馈膜噪声特性的研究 |
4.1 像管产生噪声的内在因素 |
4.1.1 量子噪声 |
4.1.2 颗粒噪声 |
4.2 防离子反馈膜噪声因子的计算 |
4.2.1 噪声因子的计算方法 |
4.2.2 噪声因子程序框图 |
4.3 防离子反馈膜噪声因子的结果分析 |
4.3.1 噪声因子有膜无膜对比分析 |
4.3.2 膜层厚度对噪声因子的影响 |
4.3.3 入射电子能量对噪声因子的影响 |
结论 |
致谢 |
参考文献 |
(6)三代微通道板电子传输特性研究(论文提纲范文)
摘要 |
ABSTRACT |
第一章 绪论 |
1.1 研究背景 |
1.2 三代微通道板国内外研究情况 |
1.3 本论文的研究意义 |
1.4 论文研究的主要内容 |
第二章 电子与固体相互作用及二次电子发射理论 |
2.1 三代微通道板的工作原理 |
2.1.1 微通道板的电子倍增特性 |
2.1.2 防离子反馈膜的引入 |
2.2 电子与固体相互作用理论 |
2.2.1 电子与固体相互作用分类 |
2.2.2 电子弹性散射 |
2.2.3 电子非弹性散射 |
2.3 二次电子发射理论 |
2.3.1 二次电子产生的机制 |
2.3.2 二次电子能量分布 |
2.3.3 二次电子发射系数δ |
第三章 防离子反馈膜的电子透过特性研究 |
3.1 防离子反馈膜的电子射程研究 |
3.1.1 防离子反馈膜的电子射程模型 |
3.1.2 Al_2O_3和SiO_2两种防离子反馈膜的电子射程 |
3.2 MONTE CARLO方法模拟防离子反馈膜电子透过特性 |
3.2.1 Monte Carlo方法介绍 |
3.2.2 建立防离子反馈膜电子运动情况的Monte Carlo模型 |
3.2.3 Monte Carlo模拟过程 |
3.3 防离子反馈膜的电子透过特性模拟结果分析 |
3.3.1 A_2O_3和SiO_2防离子反馈膜的电子透过特性对比分析 |
3.3.2 防离子反馈膜的电子能量与电子透过特性分析 |
第四章 MCP电子倍增特性的研究 |
4.1 MCP结构分析 |
4.1.1 微通道内壁的结构分析 |
4.1.2 打拿极电子倍增过程的分析 |
4.2 MCP二次电子发射系数的研究 |
4.2.1 MCP二次电子发射系数计算模型 |
4.2.2 MCP二次电子发射系数计算结果分析 |
4.3 MCP电子增益的研究 |
4.3.1 MCP电子增益的数学模型 |
4.3.2 MCP电子增益计算结果分析 |
结论 |
致谢 |
参考文献 |
(7)电子束蒸镀MCP超薄防离子反馈膜及膜层特性分析(论文提纲范文)
引言 |
1 实验 |
1.1 电子束薄膜生长机理 |
1.2 电子束制备防离子反馈膜 |
2 结果与分析 |
2.1 膜层连续性分析 |
2.2 电子透过特性分析 |
2.3 离子阻挡特性分析 |
2.4 带膜MCP电特性分析 |
3 结论 |
(8)微通道板离子壁垒膜的进一步研究(论文提纲范文)
摘要 |
ABSTRACT |
目录 |
第一章 绪论 |
1.1 微通道板的发展及其应用 |
1.2 MCP离子壁垒膜的作用及其制备技术 |
1.3 论文的主要研究内容 |
第二章 MCP离子壁垒膜性能的理论分析 |
2.1 电子透过与离子阻止的基本原理 |
2.2 膜层的电子透过特性 |
2.3 膜层的离子阻止特性 |
第三章 有机膜配方的研究及检测 |
3.1 有机膜的成膜原理及材料选择 |
3.2 有机膜配方的确定和有机膜的制备 |
3.3 有机膜衬底的检测 |
第四章 高温除气对带膜MCP性能的影响 |
4.1 MCP高温真空除气的必要性 |
4.2 带膜MCP的高温真空除气 |
4.3 高温真空除气对带膜MCP性能的影响 |
第五章 离子壁垒膜粒子透过与阻止特性的Monte-Carlo模拟 |
5.1 Monte-Carlo模拟方法概述 |
5.2 离子壁垒膜电子透过特性的Monte-Carlo模拟 |
5.3 离子阻止的Monte-Carlo模拟 |
结论 |
致谢 |
参考文献 |
(9)微通道板防离子反馈膜电子散射对像管的性能影响(论文提纲范文)
摘要 |
ABSTRACT |
目录 |
第一章 绪论 |
1.1 研究的背景和目的 |
1.2 微通道板的介绍 |
1.3 微通道板防离子反馈膜 |
1.4 该论文的主要研究内容 |
第二章 影响分辨率的主要参数 |
2.1 带膜微通道板电子透射和离子阻止的理论分析 |
2.2 防离子反馈膜微通道板的探测效率研究 |
第三章 防离子反馈膜微通道板的电子散射 |
3.1 次级电子发射理论 |
3.2 电子散射形成的背射光晕 |
3.3 带膜微通道板及其电子散射对分辨率的影响 |
第四章 防离子反馈膜MCP电子散射特性的蒙特卡罗模拟研究 |
4.1 蒙特卡罗模拟算法的介绍 |
4.2 蒙特卡罗模拟电子散射 |
4.3 对电子散射的结果分析 |
总结 |
致谢 |
参考文献 |
(10)便携式低强度X射线实时成像系统关键技术研究(论文提纲范文)
摘要 |
Abstract |
目录 |
第一章 绪论 |
1.1 基于像增强器的X射线实时成像系统发展现状 |
1.2 X射线实时成像系统中影响像质的主要因素 |
1.3 X射线实时成像系统中数字图像处理的发展 |
1.4 便携式图像采集处理平台的发展 |
1.5 本论文的主要研究内容 |
第二章 X射线成像模糊及处理 |
2.1 X射线与物质的相互作用 |
2.2 X射线焦点成像特性研究 |
2.3 MCP准直器 |
2.4 本章小结 |
第三章 单近贴式像增强器及对像质影响因素 |
3.1 X射线阴极 |
3.2 电子在X射线阴极中运动的Monte Carlo算法研究 |
3.3 微通道板(MCP)及后近贴聚焦对图像质量的影响 |
3.4 本章小结 |
第四章 CCD与像增强器像素匹配及降噪 |
4.1 CCD的分辨率及其对成像性能的影响 |
4.2 CCD的噪声及处理方法 |
4.3 本章小结 |
第五章 X射线图像的数字化处理 |
5.1 小波变换基础理论 |
5.2 图像信号与噪声的分离 |
5.3 图像增强 |
5.4 多帧叠加滤波 |
5.5 最终图像处理结果 |
5.6 本章小结 |
第六章 实时图像处理硬件平台架构研究及算法实现 |
6.1 FPGA综述 |
6.2 实时图像处理硬件平台架构 |
6.3 基于NIOSII的图像处理IP核及硬件算法的实现 |
6.5 小结 |
第七章 结论 |
7.1 论文主要结论 |
7.2 论文主要创新点 |
7.3 进一步工作展望 |
致谢 |
参考文献 |
博士论文期间的论文及专利情况 |
四、微通道板离子壁垒膜及其电子透过特性的研究(论文参考文献)
- [1]微通道板输入面光子反射特性研究[D]. 郭雅宁. 长春理工大学, 2018(01)
- [2]微通道板芯皮玻璃界面扩散及电子增益理论模拟[D]. 石攀. 中国建筑材料科学研究总院, 2018(01)
- [3]微通道板离子壁垒膜性能优化的模拟研究[D]. 孙擘. 长春理工大学, 2014(08)
- [4]微通道板玻璃无铅化及还原工艺对性能的影响[D]. 张洋. 中国建筑材料科学研究总院, 2013(S1)
- [5]防离子反馈膜对微光图像噪声特性的影响[D]. 于珊珊. 长春理工大学, 2013(08)
- [6]三代微通道板电子传输特性研究[D]. 刘倩. 长春理工大学, 2013(08)
- [7]电子束蒸镀MCP超薄防离子反馈膜及膜层特性分析[J]. 张太民,石峰,朱宇峰,李敏,聂晶,张妮,刘晓健,贺英萍. 应用光学, 2012(06)
- [8]微通道板离子壁垒膜的进一步研究[D]. 房立峰. 长春理工大学, 2011(04)
- [9]微通道板防离子反馈膜电子散射对像管的性能影响[D]. 秦志楠. 长春理工大学, 2011(04)
- [10]便携式低强度X射线实时成像系统关键技术研究[D]. 李野. 长春理工大学, 2011(06)